El chaleco Pas Normal Studios Off-Race Stow Away es una capa exterior ligera que ofrece una fiabilidad excepcional en condiciones meteorológicas impredecibles. Fabricado en tejido ripstop ligero, cuenta con una sutil estructura interior de rejilla que mantiene el chaleco alejado de la piel y evita que penetre la humedad. Las fibras de nailon de punto tupido impiden de forma natural que el viento penetre en el tejido y son extremadamente resistentes a los desgarros.

- Tejido ripstop resistente a la abrasión
- Tratamiento DWR con certificación C0
- Se puede guardar en el bolsillo trasero
- La capucha ajustable cabe debajo del casco.