Die Pas Normal Studios Stow Away Jacke bietet absolute Zuverlässigkeit bei unvorhersehbarem Wetter. Sie lässt sich leicht in einer Rückentasche verstauen, so bist du immer gut ausgerüstet und auf plötzliche Regenfälle vorbereitet. Die Jacke besteht aus einer DWR-behandelten japanischen Gewebetechnologie und bietet optimalen Windschutz und hält gelegentlichen Regenschauern stand. Das verlängerte Rückenteil wurde mit einem Silikonbündchen ausgestattet, um dich vor unerwünschtem Spritzwasser zu schützen.

- Zweiwege-Reißverschluss für einfachen Zugriff

- Elastische Ärmelbündchen

- Nicht fluorierte DWR-Behandlung

- Verlängertes Rückenteil mit Silikonbündchen

- Einfach in die Rückentasche zu packen

- Schnell trocknend