Die Off-Race Patch Beanie von Pas Normal Studios ist nicht nur ein absolutes Winter-Essential, sondern auch ein vielseitiges Accessoire zu jeder Jahreszeit. Die Mütze verfügt über eine umgeschlagene Krempe und einen gewebten Logo-Aufnäher. Sie besteht vollständig aus extrafeinen Merinofasern, bietet außergewöhnliche Isolationseigenschaften und schafft ein Mikroklima auf dem Kopf, das den wechselnden Klimabedingungen entgegenwirkt und dafür sorgt, dass du dich wohl fühlst.

- Natürlich geruchshemmend
- Rippenstrick
- Umgeschlagene Krempe
- Gewebter Aufnäher mit Logo