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La giacca Pas Normal Studios Stow Away offre un'affidabilità assoluta in caso di tempo imprevedibile. Si ripone facilmente in una tasca posteriore, per essere sempre ben equipaggiati e preparati ad affrontare improvvisi acquazzoni. Realizzata con un tessuto giapponese trattato con DWR, la giacca offre una protezione ottimale dal vento e resiste a occasionali rovesci di pioggia. Il pannello posteriore esteso è stato progettato con un polsino in silicone per proteggervi da spruzzi d'acqua indesiderati.
- Cerniera a due vie per un facile accesso
- Polsini elastici
- Trattamento DWR non fluorurato
- Pannello posteriore esteso con polsini in silicone
- Facile da riporre nella tasca posteriore
- Asciugatura rapida
| Codice articolo: | MO2174H-BLACK |
| Genere: | men |
| Colore: | BLACK |
| Materiale: | 100% Nylon |
Descrizione
La giacca Pas Normal Studios Stow Away offre un'affidabilità assoluta in caso di tempo imprevedibile. Si ripone facilmente in una tasca posteriore, per essere sempre ben equipaggiati e preparati ad affrontare improvvisi acquazzoni. Realizzata con un tessuto giapponese trattato con DWR, la giacca offre una protezione ottimale dal vento e resiste a occasionali rovesci di pioggia. Il pannello posteriore esteso è stato progettato con un polsino in silicone per proteggervi da spruzzi d'acqua indesiderati.
- Cerniera a due vie per un facile accesso
- Polsini elastici
- Trattamento DWR non fluorurato
- Pannello posteriore esteso con polsini in silicone
- Facile da riporre nella tasca posteriore
- Asciugatura rapida
| Codice articolo: | MO2174H-BLACK |
| Genere: | men |
| Colore: | BLACK |
| Materiale: | 100% Nylon |
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